ＪＸ金属は１３日、グループ会社のタニオビスがドイツ・ゴスラーの拠点に次世代半導体向けＣＶＤ・ＡＬＤプリカーサ材料の開発・生産が可能な設備を導入し、稼働を開始したと発表した。先端半導体需要の高まりを受け、半導体内の極めて薄い膜の生成や微細配線の形成に利用される高純度ＣＶＤ・ＡＬＤプリカーサ材料の引き合いが増えていることに対応し、開発および供給体制を整備した。タニオビスは、ドイツにゴスラーとラウフェ...
ＪＸ金属は１３日、グループ会社のタニオビスがドイツ・ゴスラーの拠点に次世代半導体向けＣＶＤ・ＡＬＤプリカーサ材料の開発・生産が可能な設備を導入し、稼働を開始したと発表した。先端半導体需要の高まりを受け、半導体内の極めて薄い膜の生成や微細配線の形成に利用される高純度ＣＶＤ・ＡＬＤプリカーサ材料の引き合いが増えていることに対応し、開発および供給体制を整備した。タニオビスは、ドイツにゴスラーとラウフェ...
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